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艾科半导体申请硅片清洗设备专利,提高清洗效果

2026年05月18日 08:13
 

国家知识产权局信息显示,浙江艾科半导体设备有限公司申请一项名为“一种硅片清洗设备”的专利,公开号CN121620120A,申请日期为2025年10月。

专利摘要显示,本发明涉及半导体加工技术领域,具体公开了一种硅片清洗设备,包括:清洗槽;设置在清洗槽内的载台;与载台相连接的驱动部,所述驱动部用以带动载台做出竖直以及水平方向的往复直线运动;设置在载台上的支撑板,所述支撑板与载台之间为弹性连接,所述支撑板与载台可在水平方向发生相对位移;可分离的设置在支撑板上的清洗盒,所述清洗盒用以容纳多个硅片,所述清洗盒四侧均可供液体通过。本发明可带动硅片在清洗槽内进行升降以及水平位移,提高与清洗液的接触程度,由此提高清洗效果。

天眼查资料显示,浙江艾科半导体设备有限公司,成立于2019年,位于嘉兴市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本1250万人民币。通过天眼查大数据分析,浙江艾科半导体设备有限公司财产线索方面有商标信息2条,专利信息34条。

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